Покрытия
PVD-методы нанесения - катодное распыление
При физическом осаждении PVD (physical vapor deposition) металлических покрытий материал катода переходит из твердого состояния в газообразное, затем происходит осаждение материала на подложку (образец, деталь, инструмент…). Материал катода может переходить в газовую фазу в результате испарения (под воздействием тепловой энергии) или в результате катодного распыления (под действием бомбардирующих ионов).
Испарение осуществляется за счет резистивного сопротивления, индукционного нагрева, электронно-лучевых пучков, низковольтной дуги, катодной или анодной дуги, лазерного луча. Процессы могут проходить как самостоятельно, так и с дополнительной ионизацией, в среде реакционного газа, а так же с напряжением смещения.
Катодное распыление осуществляется высокоэнергетичными ионами, которые приобретают необходимую энергию, ускоряясь в электрическом поле, и распыляют атомы материала катода. Распыление может происходить при постоянном токе или токе высокой частоты, в среде реакционного газа или без него, с напряжением смещения или без него, с дополнительным магнитным полем.
В машиностроении наиболее широко применяются магнетронный и вакуумно-дуговой PVD методы нанесения покрытий.